| 摘要 |
리소그래피 장치는 방사선 빔을 컨디셔닝하도록 구성되는 조명 시스템, 패터닝 디바이스를 홀딩하도록 구성되는 서포트로서, 상기 패터닝 디바이스는 자신의 단면에 패턴이 있는 방사선 빔을 전달하여 패터닝된 방사선 빔을 형성할 수 있는, 서포트, 기판을 홀딩하도록 구성되는 기판 테이블, 및 패터닝된 방사선 빔을 기판의 타겟부 상에 투영하도록 구성되는 투영 시스템을 포함한다. 리소그래피 장치는 패터닝 디바이스의 표면 상에서 스캔하여 패터닝 디바이스의 길이와 나란한 제 1 방향에서의 왜곡 및 패터닝 디바이스의 표면에 실질적으로 수직인 제 2 방향에서의 왜곡을 결정하도록 설계되는 인코더를 더 포함한다. |
