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탄탈 스퍼터링 타깃의 스퍼터면에 있어서, 평균 결정립경이 50 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하이고, 또한 결정립경의 편차가 30 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 탄탈 스퍼터링 타깃. 탄탈 스퍼터링 타깃의 스퍼터면에 있어서, (200) 면의 배향률이 70 ％ 를 초과, 또한 (222) 면의 배향률이 30 ％ 이하이며, 평균 결정립경이 50 ㎛ 이상 150 ㎛ 이하이고, 또한 결정립경의 편차가 30 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 탄탈 스퍼터링 타깃. 타깃의 결정립경 또는 결정립경과 결정 배향을 제어함으로써, 탄탈 스퍼터링 타깃의 방전 전압을 낮추어 플라즈마를 발생시키기 쉽게 함과 함께, 성막 중의 전압의 흔들림을 억제하는 효과를 갖는다. |
