DEVICE CORRELATED METROLOGY (DCM) FOR OVL WITH EMBEDDED SEM STRUCTURE OVERLAY TARGETS

摘要

본 발명개시의 양태는 디바이스의 2개의 실질적으로 동일 평면 층들 간의 상대 위치를 측정하는데 이용하기 위한 타겟을 기술한다. 타겟은 제 1 층 및 제 2 층에 주기적 구조물을 포함한다. 제 1 및 제 2 주기적 구조물 간의 제 1 및 제 2 층의 상대 위치의 차이 및 개개의 디바이스형 구조물이 측정되어 제 1 및 제 2 주기적 구조물 간의 제 1 및 제 2 층의 상대 위치를 보정할 수 있다. 본 요약서는 검색 기술자 또는 다른 독자가 기술적 개시의 주제를 빠르게 알아낼 수 있도록 하는 요약을 요구하는 규칙을 준수하기 위해 제공된 것임을 강조한다. 이것은 특허청구범위의 범위 또는 의미를 해석 또는 제한하는데 이용되지 않을 것이라는 점을 포함해서 진술된다.