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<p>본 발명의 목적은, 표면의 대전이 효과적으로 억제되는 글래스 기판의 제조 방법을 제공하는 것이다. 글래스 기판의 제조 방법은, 세정 공정과, 에칭 공정을 구비한다. 세정 공정에서는, 조면화 표면(12b)이 세정된다. 조면화 표면(12b)은, 반도체 소자가 형성되는 글래스 기판(10)의 표면인 소자 형성 표면(12a)의 반대측의 표면이다. 에칭 공정에서는, 세정 공정에서 세정된 조면화 표면(12b)이 에칭된다. 에칭 공정에서 에칭되기 전의 조면화 표면(12b)의 표면 저항보다, 에칭 공정에서 에칭된 후의 조면화 표면(12b)의 표면 저항이 작아지도록, 조면화 표면(12b)은, 세정 공정에서 세정되고, 에칭 공정에서 에칭된다.</p> |
