用于制程环上之基于稀土金属氧化物的薄膜涂层之离子辅助沉积;ION ASSISTED DEPOSITION FOR RARE-EARTH OXIDE BASED THIN FILM COATINGS ON PROCESS RINGS

摘要

一种制造物品的方法包括为蚀刻反应器提供一环。随后进行离子辅助沉积(IAD)以在该环的至少一个表面上沉积保护层，其中该保护层为抗电浆稀土金属氧化物膜，该膜具有小于300微米的厚度及小于6微英寸的平均表面粗糙度。