硬涂积层体及其制造方法

摘要

本发明提供一种硬涂积层体(1)，其包括：基材片(2)；硬涂层(3)，其积层于基材片(2)之至少一主面侧，并且，硬涂层(3)之厚度为25~80μm，硬涂层(3)之基材片(2)侧中之折射率，比硬涂层(3)之基材片(2)侧的对侧中之折射率高0.005以上。该硬涂积层体(1)之硬涂层(3)，表面硬度高，且可利用单层抑制光反射。