发明名称 |
光子源、度量衡装置、微影系统及元件制造方法;PHOTON SOURCE, METROLOGY APPARATUS, LITHOGRAPHIC SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD |
摘要 |
一种辐射驱动光源,其包含雷射及聚焦光学件。此等者产生聚焦于含有一气体(例如,Xe)之一第一容器内之一电浆形成区上的一辐射光束。收集光学件收集由该雷射辐射维持之一电浆发射的光子以形成一输出辐射光束。第一容器围封于一气密密封式第二容器内。在该第二容器内完全含有由于该输出辐射之紫外线分量而产生于该第二容器内的任何臭氧。第二容器进一步滤出该等紫外线分量。可代替雷射辐射来使用微波辐射以形成该电浆。 |
申请公布号 |
TW201518874 |
申请公布日期 |
2015.05.16 |
申请号 |
TW103135087 |
申请日期 |
2014.10.08 |
申请人 |
ASML荷兰公司 ASML NETHERLANDS B. V. |
发明人 |
范 贺蒙 马卓恩 配特思 克力司提安斯 VAN HEUMEN, MARTIJN PETRUS CHRISTIANUS |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H05G2/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林嘉兴 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 NL |