发明名称 高度Xジブロックコポリマーの製造、精製及び使用
摘要 <p>本発明は、高度X(「カイ」)ジブロックコポリマーの製造及び精製に関する。このようなコポリマーは、有意に異なる相互作用パラメータを有するポリマーの2つのセグメント(「ブロック」)を含み、誘導自己組織化用途に用いることができる。</p>
申请公布号 JP2015513788(A) 申请公布日期 2015.05.14
申请号 JP20140556769 申请日期 2013.02.11
申请人 发明人
分类号 H01L21/027;B05D5/04;B82Y30/00;B82Y40/00;C08F293/00;G03F7/075;G03F7/40;H01L21/3065 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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