发明名称 |
半导体装置 |
摘要 |
在作为回流二极管内置了肖特基势垒二极管的半导体装置中,在回流状态下使最大单极电流增大,并且在截止状态下降低漏电流。在第1导电类型的漂移层(20)的表层侧设置了的相邻的第2导电类型的阱区域(30)之间的表面中的至少一部分中,具备肖特基电极(75),使处于肖特基电极(75)的下部并且处于相邻的所述阱区域(30)之间的第1区域内的第1导电类型的杂质浓度比漂移层(20)的第1导电类型的第1杂质浓度高、并且比阱区域(30)的第2导电类型的第2杂质浓度低。 |
申请公布号 |
CN104620381A |
申请公布日期 |
2015.05.13 |
申请号 |
CN201380046464.X |
申请日期 |
2013.04.11 |
申请人 |
三菱电机株式会社 |
发明人 |
日野史郎;三浦成久;今泉昌之 |
分类号 |
H01L27/04(2006.01)I;H01L29/12(2006.01)I;H01L29/47(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/861(2006.01)I;H01L29/868(2006.01)I;H01L29/872(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/04(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
金春实 |
主权项 |
一种半导体装置,其特征在于,具备:漂移层,具有第1导电类型的第1杂质浓度;多个阱区域,在所述漂移层的表层侧,以相互隔开的方式设置,并且具有第2导电类型的第2杂质浓度;肖特基电极,设置于所述漂移层的表面上,与源极欧姆电极电连接;以及第1区域,设置于相邻的所述阱区域之间且所述肖特基电极的下部,具有比所述第1杂质浓度高、且比所述第2杂质浓度低的第1导电类型的杂质浓度。 |
地址 |
日本东京 |