发明名称 用低压冷焊制作装置的方法
摘要 本发明公开了用低压冷焊制作装置的方法。本发明提供一种把金属和/或有机层,从已刻图的印模,最好是软的、弹性体印模,转印到基片的方法。该已刻图的金属或有机层,例如可以用于广大范围的电子装置。本方法特别适合用于有机电子部件的纳米尺度的刻图操作。
申请公布号 CN102544367B 申请公布日期 2015.05.13
申请号 CN201210029472.0 申请日期 2003.12.02
申请人 普林斯顿大学理事会 发明人 金昌淳;斯蒂芬·R·弗瑞斯特
分类号 H01L51/00(2006.01)I 主分类号 H01L51/00(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 蒋世迅
主权项 一种制备有机装置的方法,包括:在已刻图的、软的弹性体印模上,淀积第一有机层;和通过将淀积在已刻图的、软的弹性体印模上的层冷焊到基片上的层或冷焊到所述基片,来把该第一有机层从已刻图的、软的弹性体印模,转印到所述基片上,其中所述第一有机层包括所述装置的有源部件。
地址 美国新泽西