发明名称 一种等离子体清洗装置
摘要 一种等离子体清洗装置,等离子体发生器装置为方形壳体,侧壁设气体源通入口,方形壳体的顶面和底面均绝缘板,顶面和底面上设36个通孔,顶面的通孔内插接绝缘管A,绝缘管A内插接绝缘管B,绝缘管B的下端插接在底面的通孔内,绝缘管B内插接正电极,正电极下端穿过底面通孔,向下延伸,延伸到底面的下部,正电极下端通过铜线相连,正电极与交流电源的正极相连,等离子体发生器装置部分嵌入在水槽内部,在水槽的内部,固定连接一置物板,置物板与一根导线的一端相连,导线另一端延伸到水槽的外部,导线另一端与地线连接。置物板设100个通孔。本发明产生的等离子体温度很低,能够长时间的放电,进而形成一种均匀稳定的气液交融等离子体。
申请公布号 CN104609509A 申请公布日期 2015.05.13
申请号 CN201510021656.6 申请日期 2015.01.15
申请人 大连民族学院 发明人 刘东平;宗子超;周仁武
分类号 C02F1/46(2006.01)I;C02F1/467(2006.01)I;A47J43/24(2006.01)I;A23L1/015(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I 主分类号 C02F1/46(2006.01)I
代理机构 大连一通专利代理事务所(普通合伙) 21233 代理人 秦少林
主权项 一种等离子体清洗装置,主要包括有侧壁、气体源通入口、顶面、底面、绝缘管A、绝缘管B、正电极、铜线、水槽、置物板和导线,其特征在于:该等离子体发生器装置为方形壳体,在两个侧壁的下部分别设有气体源通入口,两个气体源通入口的位置相对应,该方形壳体的顶面和底面均为绝缘板,在该顶面和底面上分别设有36个通孔,该顶面和底面上通孔的位置相对应,顶面通孔的直径比底面通孔的直径大,在每个顶面的通孔内插接一根上下均开口的绝缘管A,该绝缘管A的外径与上述顶面通孔的直径相同,该绝缘管A的长度与上述顶面的厚度相同,在每根绝缘管A的内部插接下开口的绝缘管B,绝缘管B的顶端与上述绝缘管A的顶端之间有距离,绝缘管B的下端插接在上述底面的通孔内,该绝缘管B的外径与上述底面通孔的直径相同,上述顶面的厚度与底面的厚度之和,小于绝缘管B的长度,在绝缘管B的内部插接正电极,该正电极的下端穿过底面的通孔,向下延伸,延伸到底面的下部,每根正电极的下端通过铜线相连,使其并联在一起,该正电极与交流电源的正极相连,上述等离子体发生器装置部分嵌入在水槽内部,该等离子体发生器装置的绝缘管A的下端与水槽的底面在同一水平面上,在该水槽的内部,固定连接一置物板,该置物板的位置在等离子体发生器装置顶面的上部,该置物板为耐高温材料,该置物板与一根导线的一端相连,该导线的另一端延伸到水槽的外部,该导线的另一端与地线连接。置物板上设有100个通孔。
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