局部曝光装置

摘要

提供一种局部曝光装置，调整在基板面内较细地设定的每个区域的曝光量，提高显影处理后抗蚀剂残留膜的均匀性，抑制布线图案的线宽以及间距的偏差。具备：具有在基板输送路径上方沿着与基板输送方向相交叉的方向排列的多个发光元件的光源、能够选择性地将构成光源的多个发光元件中的一个或者多个作为发光控制单位来进行发光驱动的发光驱动部、被设置成在被处理基板没有在光源下方输送的状态下能够沿着光源对被处理基板照射光的光照射位置而在基板宽度方向上进退来检测由光源照射的光照度的照度检测单元、存储由照度检测单元检测出的照度与发光元件的驱动电流值之间的关系作为相关表并且控制由发光驱动部对发光元件进行的驱动的控制部。

主权项

一种局部曝光装置，用于对在基板上形成的感光膜的规定区域实施曝光处理，其特征在于，具备：基板输送单元，其形成基板输送路径，沿着上述基板输送路径平流输送上述基板；光源，其在上述基板输送路径的上方具有沿与基板输送方向相交叉的方向线状地排列的多个发光元件，能够通过上述发光元件的发光来对在上述发光元件的下方沿着基板输送方向相对于上述发光元件移动的上述基板上的感光膜进行光照射；发光驱动部，其能够选择性地将构成上述光源的多个发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单位来进行发光驱动；照度检测单元，其被设置成在上述基板没有在上述光源的下方输送的状态下能够沿着上述光源对上述基板照射光的光照射位置在基板宽度方向上进退，来检测由上述光源照射的光的照度；以及控制部，其存储由上述照度检测单元检测出的照度与上述发光元件的驱动电流值之间的关系作为相关表，并且控制由上述发光驱动部对上述发光元件进行的驱动，其中，上述控制部针对在上述基板上形成的感光膜的规定区域，根据该规定区域的膜厚求出要照射的需要照度，并且针对能够照射上述规定区域的上述光源的发光元件，基于上述相关表根据上述需要照度来决定驱动电流值，上述控制部根据上述驱动电流值控制上述发光驱动部，来使上述发光元件发光的照射照度与上述发光驱动部提供的驱动电流相应地变化。