| 发明名称 | 一种50纳米以下SiO<sub>2</sub>纳米粒子的合成方法及其粒径控制合成方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及纳米技术领域，具体涉及一种50纳米以下SiO<sub>2</sub>纳米粒子的合成方法及其粒径控制合成方法。两种方法均包括如下步骤：将赖氨酸溶解于超纯水中；向混合液中加入直链烷烃，在搅拌条件下加热至60～80℃，再加入TEOS，维持同等温度和搅拌速率反应8～20h，制得50纳米以下SiO<sub>2</sub>纳米粒子分散液。本发明所提供的合成操作简便易行，使用水作为反应溶剂绿色环保，所制备的SiO<sub>2</sub>纳米粒子粒径均一且可调控。 | ||
| 申请公布号 | CN104609431A | 申请公布日期 | 2015.05.13 |
| 申请号 | CN201510026552.4 | 申请日期 | 2015.01.19 |
| 申请人 | 武汉金弘扬化工科技有限公司 | 发明人 | 洪昕林;胡兵 |
| 分类号 | C01B33/18(2006.01)I;B82Y30/00(2011.01)I | 主分类号 | C01B33/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人 | 杨立 |
| 主权项 | 一种50纳米以下SiO<sub>2</sub>纳米粒子的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：1)将赖氨酸溶解于超纯水中；2)向步骤1)得到的混合液中加入直链烷烃，在搅拌条件下加热至60～80℃，再加入TEOS，维持同等温度和搅拌速率反应8～20h，制得50纳米以下SiO<sub>2</sub>纳米粒子分散液。 | ||
| 地址 | 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区大学园路武汉大学科技园创业楼3楼17号 | ||