发明名称 包含硅氧烷化合物的抗反射涂敷组合物及利用其的抗反射膜
摘要 本发明涉及能够形成具有低折射率的涂敷层的抗反射涂敷组合物、利用该抗反射涂敷组合物制备的抗反射膜及上述抗反射膜的制备方法,更具体地,涉及使用由具有氟烷基的有机硅烷(organosilane)与烷氧基硅烷进行反应来合成的硅氧烷化合物作为粘结剂而包含的抗反射涂敷组合物来形成涂敷层,使反射率最小化的抗反射膜及其制备方法。利用上述涂敷组合物制备的抗反射膜具有优秀的抗反射效果,因而有望适用于触控膜等多种显示器设备。
申请公布号 CN104619795A 申请公布日期 2015.05.13
申请号 CN201280075562.1 申请日期 2012.12.27
申请人 乐金华奥斯有限公司 发明人 赵烘宽;洪周希;金源国
分类号 C09D183/02(2006.01)I;G02B1/111(2015.01)I;C08J5/18(2006.01)I 主分类号 C09D183/02(2006.01)I
代理机构 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人 吕琳;刘明海
主权项 一种抗反射涂敷组合物,其特征在于,包括:粘结剂,将由下述化学式1表示的硅烷化合物与由下述化学式2表示的有机硅烷化合物进行聚合而形成;以及中空二氧化硅粒子;[化学式1]R<sup>1</sup><sub>x</sub>Si(OR<sup>2</sup>)<sub>4‑x</sub>所述化学式1中,R<sup>1</sup>为碳数为1~10的烷基、碳数为6~10的芳基或者碳数为3~10的烯基,且R<sup>2</sup>为碳数为1~6的烷基,x为0≤x&lt;4的整数;[化学式2]R<sup>3</sup><sub>y</sub>Si(OR<sup>4</sup>)<sub>4‑y</sub>所述化学式2中,R<sup>3</sup>为碳数为1~12的氟烷基,R<sup>4</sup>为碳数为1~6的烷基,y为0≤x&lt;4的整数。
地址 韩国首尔