低辐射薄膜、低辐射镀膜玻璃及其制备方法

摘要

本发明提供了一种低辐射薄膜，包括：衬底，置于所述衬底上的第一介质层，所述第一介质层为Ta₂O₅；置于所述第一介质层上的功能层，所述功能层为Ag；置于所述功能层上的第二介质层，所述第二介质层为Ta₂O₅。本发明还提供了一种低辐射玻璃及其制备方法。本发明采用Ta₂O₅作为第一介质层和第二介质层，Ta₂O₅能够形成致密的薄膜，作为介质层时，能够有效阻隔空气中的氧气和水汽等渗透进入功能层，从而减轻氧气和水汽对金属银的腐蚀氧化，增加低辐射薄膜的稳定性，使得低辐射薄膜不易失去低辐射性能。实验表明，本发明提供的低辐射玻璃具有良好的光学性能和稳定性，可以在空气中存放数年。

主权项

一种低辐射薄膜，由以下结构组成：衬底；置于所述衬底上的第一介质层，所述第一介质层为Ta₂O₅；所述第一介质层的厚度为5nm～30nm；置于所述第一介质层上的功能层，所述功能层为Ag；置于所述功能层上的第二介质层，所述第二介质层为Ta₂O₅；所述第二介质层的厚度为40nm～70nm；所述第一介质层是以Ta₂O₅为靶材，采用射频磁控溅射的方法在所述衬底上形成；所述第二介质层是以Ta₂O₅为靶材，采用射频磁控溅射的方法在所述功能层上形成。