| 发明名称 | 微细构造体及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供一种微细构造体及其制造方法，即通过以往未有的新的方法固化图案形成层，得以转印模型的凸凹图案。通过将PTFE分散液使用于成为转印部2的图案形成层2a，对形成于模型5的凸凹图案上的图案形成层2a照射电离放射线，固化该图案形成层2a。这样，本发明的微细构造体1的制造方法是通过与热加印法方式和光加印法方式完全不同的电离放射线R固化图案形成层2a的加印法方式，即通过以往未有的新的方法固化图案形成层2a，从而转印模型5的凸凹图案。 | ||
| 申请公布号 | CN102681337B | 申请公布日期 | 2015.05.13 |
| 申请号 | CN201210019716.7 | 申请日期 | 2012.01.20 |
| 申请人 | 大金工业株式会社 | 发明人 | 大岛明博;田川精一;鹫尾方一;大山智子;高桥朋宏;大久保聪;小林亚畅;长泽尚胤;田口光正 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人 | 郭广迅 |
| 主权项 | 一种微细构造体，其特征在于：具有转印部，其中，图案形成层在通过模型变形的状态下固化，转印上述模型的凸凹图案，上述转印部以用电离放射线照射含有聚四氟乙烯的电离放射线固化物的方式被固化，其中，上述照射为在上述聚四氟乙烯于340～350℃被融解后，且在过度冷却状态的310～325℃的温度条件下进行。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||