| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板制作方法，包括：在衬底基板上形成包括遮光层、缓冲层、有缘层、栅绝缘层、栅线、公共电极线和栅极的图形；形成层间绝缘薄膜，并利用第一光刻胶对所述层间绝缘薄膜图案化，形成源漏金属薄膜和第二光刻胶，通过所述第一光刻胶和第二光刻胶配合形成层间绝缘层、源极、漏极和数据线的图形；形成包括有机绝缘层和公共电极的图形，并连接跨越栅线和公共电极线的数据线；形成包括钝化层、像素电极的图形。还公开了一种阵列基板和显示装置。本发明形成层间绝缘层、源极和漏极只需一次mask工艺，相对于现有技术减少一次mask次数，从而降低了工艺复杂度和工艺成本，提高了产率。 | ||
| 申请公布号 | CN104617104A | 申请公布日期 | 2015.05.13 |
| 申请号 | CN201510010076.7 | 申请日期 | 2015.01.08 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 舒适;孙双;崔承镇;张锋 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 李相雨 |
| 主权项 | 一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成包括遮光层、缓冲层、有缘层、栅绝缘层、栅线、公共电极线和栅极的图形；形成层间绝缘薄膜，并利用第一光刻胶对所述层间绝缘薄膜图案化，形成源漏金属薄膜和第二光刻胶，通过所述第一光刻胶和第二光刻胶配合形成层间绝缘层、源极、漏极和数据线的图形；形成包括有机绝缘层和公共电极的图形，并连接跨越栅线和公共电极线的数据线；形成包括钝化层、像素电极的图形。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||