发明名称 | 基板处理装置 | ||
摘要 | 本发明提供一种基板处理装置,该基板处理装置有效地抑制对基板处理装置内的基板产生损伤。该基板处理装置具备:对基板进行研磨的研磨单元、对通过研磨单元进行了研磨处理后的基板进行清洗以及干燥的清洗单元、以及在研磨单元以及清洗单元内进行基板的输送的输送单元。另外,基板处理装置具备:计测部(5A),其按每一基板来计测在研磨单元、清洗单元以及输送单元中的停留时间;以及判定部(5B),其将由计测部(5A)计测出的停留时间与针对各单元分别独立地设定的设定时间进行比较,并且如果停留时间超过了设定时间则判定为发生了错误。 | ||
申请公布号 | CN104617012A | 申请公布日期 | 2015.05.13 |
申请号 | CN201410612632.3 | 申请日期 | 2014.11.04 |
申请人 | 株式会社荏原制作所 | 发明人 | 井上正文;目黑隆义 |
分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 舒艳君;李洋 |
主权项 | 一种基板处理装置,其特征在于,具备:研磨单元,其对基板进行研磨;清洗单元,其对通过所述研磨单元进行了研磨处理后的基板进行清洗以及干燥;输送单元,其在所述研磨单元以及所述清洗单元内进行基板的输送;计测部,其按每一所述基板来计测在所述研磨单元、所述清洗单元以及所述输送单元中的停留时间;以及判定部,其将由所述计测部计测出的停留时间与针对所述研磨单元、所述清洗单元以及所述输送单元分别独立地设定的设定时间进行比较,并且如果所述停留时间超过了设定时间则判定为发生了错误。 | ||
地址 | 日本东京都 |