一种基于被动聚焦的实时聚焦方法及装置

摘要

本发明公开了一种基于被动聚焦的实时聚焦方法及装置，属于超大规模集成电路装备行业技术领域。扫描式光刻机按照条带进行曝光，所有条带构成整个曝光区域；曝光区域确定实时聚焦区域，将实时聚焦区域划分成待拟合区域；曝光某一条带前利用被动聚焦将与此条带相交的所有待拟合区域的四个顶点位置的焦面值测算出来，通过矩阵运算拟合得到待拟合区域的焦平面方程；曝光某一条带时找到已拟合区域，通过焦平面方程得到焦面值，移动曝光基底Wafer实现精准聚焦。本发明提高了聚焦精准度和效率，实现比纯软件聚焦更快的速度，满足快速实时聚焦的需求，实现更精细、更快速的聚焦效果，且成本低廉，不会增加任何的硬件成本。

主权项

一种基于被动聚焦的实时聚焦方法，其特征在于，具体步骤如下：(A)、扫描式光刻机按照条带进行曝光，条带是一个长方形曝光区域，一次扫描曝光一个条带，一个条带接着一个条带的顺序曝光，所有条带构成整个曝光区域；(B)、根据步骤(1)中曝光区域确定实时聚焦区域，将实时聚焦区域按照一定的宽度和高度划分成若干小的矩形区域作为待拟合区域；(C)、曝光某一条带前通过被动聚焦的方式将与此条带相交的所有待拟合区域的四个顶点位置的焦面值测算出来，将每个待拟合区域四个顶点的位置(X，Y)及焦面值进行矩阵运算，拟合得到此区域的焦平面方程；(D)、曝光某一条带时通过三轴定位平台Stage当前的位置(x0，y0)，找到包含此位置的已拟合区域，并将(x0，y0)代入此区域的焦平面方程，从而得到三轴定位平台Stage在此位置的焦面值f0，移动三轴定位平台Stage的Z轴到f0位置实现此位置的聚焦。