| 发明名称 | 一种均匀旋涂用托盘 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种托盘，具体涉及一种均匀旋涂用托盘，内放置基片，主要包括圆盘本体，该圆盘本体中心向下形成一凹槽，该凹槽底部与所述圆盘本体之间的距离等于基片的厚度。本实用新型通过设置凹槽，基片放置于凹槽内时，基片表面与托盘表面保持平齐，避免旋转过程中基片棱角产生气流，克服气流对旋涂液的影响，有助于涂液的均匀扩散。 | ||
| 申请公布号 | CN204323874U | 申请公布日期 | 2015.05.13 |
| 申请号 | CN201420781923.0 | 申请日期 | 2014.12.13 |
| 申请人 | 西安宝莱特光电科技有限公司 | 发明人 | 张志勇;赵青山;赵少华;赵炜 |
| 分类号 | B65D19/26(2006.01)I;B65D19/38(2006.01)I | 主分类号 | B65D19/26(2006.01)I |
| 代理机构 | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人 | 李罡 |
| 主权项 | 一种均匀旋涂用托盘，内放置基片，其特征在于：主要包括圆盘本体，该圆盘本体中心向下形成一凹槽，该凹槽底部与所述圆盘本体之间的距离等于基片的厚度。 | ||
| 地址 | 710075 陕西省西安市高新区科技三路60号 | ||