| 发明名称 | 用于回收光学加工装置的未利用的光学辐射能的方法、回收装置和光学加工装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于回收光学加工装置(1)的未利用的光学辐射能的方法，该光学加工装置包括至少一个光源、尤其是激光光源(2)或者具有多个发光二极管的光源，该方法包括如下步骤：运行所述至少一个光源并且产生电磁射线(4)，给至少一个工件(5)加载用于加工工件(5)的电磁射线(4)，将未用于加工所述至少一个工件(5)的电磁射线(4')的至少一部分收集在至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)中，将由所述至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)收集的电磁射线(4')的辐射能的至少一部分转化成电能(14)。此外，本发明涉及一种用于回收光学加工装置(1)的未利用的电磁辐射能的回收装置(6、6a、6b)以及涉及一种光学加工装置(1)。 | ||
| 申请公布号 | CN104619457A | 申请公布日期 | 2015.05.13 |
| 申请号 | CN201380047224.1 | 申请日期 | 2013.07.09 |
| 申请人 | LIMO专利管理有限及两合公司 | 发明人 | T·米特拉 |
| 分类号 | B23K26/70(2014.01)I;B23K37/00(2006.01)I;F22B1/00(2006.01)I;H01L31/04(2014.01)I | 主分类号 | B23K26/70(2014.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 张立国 |
| 主权项 | 用于回收光学加工装置(1)的未利用的光学辐射能的方法，该光学加工装置包括至少一个光源、尤其是激光光源(2)或者具有多个发光二极管的光源，该方法包括如下步骤：——运行所述至少一个光源并且产生电磁射线(4)，——给至少一个工件(5)加载用于加工工件(5)的电磁射线(4)，——将未用于加工所述至少一个工件(5)的电磁射线(4')的至少一部分收集在至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)中，——将由所述至少一个回收装置(6、6a、6b)的光陷阱机构(7)收集的电磁射线(4')的辐射能的至少一部分转化成电能(14)。 | ||
| 地址 | 德国多特蒙德 | ||