用于半导体设备的排气装置

摘要

本实用新型公开一种用于半导体设备的排气装置，属于半导体设备技术领域，包括可连接在工艺腔体上的压力控制器，压力控制器的另一端装有排气管(3)，排气管上装有用于抽气的高真空泵和低真空泵，高真空泵、低真空泵的一侧分别设有用于控制气体流动的阀门，还包括安装在排气管内的旋转力施加装置(7)；旋转力施加装置包括螺旋扇(8),螺旋扇的外侧设有装置外壳，螺旋扇通过支撑杆固定在装置外壳内；旋转力施加装置安装在排气管内弯曲部(3A)的两侧。本实用新型的装置能有效抑制并防止污染物附着在排气管内壁上，避免造成杂质富集，并通过持续稳定、大范围的排气压力，使污染物更彻底的被排出，保证了生产效率及产品良率。

主权项

一种用于半导体设备的排气装置，包括可连接在工艺腔体(1)上的压力控制器(2)，压力控制器(2)的另一端装有排气管(3)，排气管(3)上装有用于抽气的高真空泵(5)和低真空泵(6)，高真空泵(5)安装在压力控制器(2)和低真空泵(6)之间，所述的高真空泵(5)的一侧、低真空泵(6)的一侧分别设有用于控制气体流动的阀门(4)，其特征在于，还包括安装在排气管(3)内的旋转力施加装置(7)；所述的旋转力施加装置(7)包括可随着排气管(3)内气流产生自旋转的螺旋扇(8),螺旋扇(8)的外侧设有可安装在排气管(3)上的装置外壳(10)，螺旋扇(8)通过支撑杆(9)固定在装置外壳(10)内；所述的旋转力施加装置(7)安装在排气管(3)内弯曲部(3A)的两侧。