发明名称 |
一种LVDT新型的线圈绕制结构 |
摘要 |
本实用新型属于机械设计技术领域,涉及一种LVDT新型的线圈绕制结构。本实用新型包括线圈组件、壳体、底盖、铁芯、连杆;线圈组件包括骨架、初级线圈、次级线圈Ⅰ、次级线圈Ⅱ组成;初级线圈均匀分布在骨架每个线槽内;次级线圈Ⅰ、次级线圈Ⅱ绕制在初级线圈上,且次级线圈Ⅰ、次级线圈Ⅱ以骨架轴向中心对称分布,每个线槽内绕制线圈匝数由内向外阶梯递增;骨架通过滚包的方式与底盖、壳体紧固。本实用新型解决了提高LVDT线位移传感器线性范围的线圈绕制结构,其结构简单可靠、性能优良。 |
申请公布号 |
CN204332574U |
申请公布日期 |
2015.05.13 |
申请号 |
CN201420751677.4 |
申请日期 |
2014.12.03 |
申请人 |
武汉航空仪表有限责任公司 |
发明人 |
刘彦君;肖岸飞;梁国栋;王鲲鹏 |
分类号 |
H01F5/02(2006.01)I;H01F41/06(2006.01)I;G01B7/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01F5/02(2006.01)I |
代理机构 |
中国航空专利中心 11008 |
代理人 |
杜永保 |
主权项 |
一种LVDT新型的线圈绕制结构,其特征为:所述结构包括线圈组件、壳体(4)、底盖(8)、铁芯(5)、连杆(6);线圈组件包括骨架(3)、初级线圈(2)、次级线圈Ⅰ(1)、次级线圈Ⅱ(7)组成;初级线圈(2)均匀分布在骨架(3)每个线槽内;次级线圈Ⅰ(1)、次级线圈Ⅱ(7)绕制在初级线圈(2)上,且次级线圈Ⅰ(1)、次级线圈Ⅱ(7)以骨架(3)轴向中心对称分布,每个线槽内绕制线圈匝数由内向外阶梯递增;壳体(4)通过两端挤压变形的收口方式与底盖(8)、骨架(3)紧固;铁芯(5)通过螺纹与连杆(6)连接,可在骨架(3)中心孔内自由移动。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区东湖东路2号 |