发明名称 用于流体中微粒子的多参数测量的设备和方法
摘要 本发明涉及用于微粒子的表征的流的测量的电光设备,包括:要表征的流体的流在其中循环的测量室(CUM)、不相交光谱的至少两个光源(S1、S2)、用于测量电阻率(RES)的设备以及均允许光学参数的测量的至少三个其他检测器(D1、D2、D3),所述光学参数选自荧光(FL)、消光(EXT)、广角衍射(SSC)以及小角衍射(FSC)。
申请公布号 CN103339489B 申请公布日期 2015.05.13
申请号 CN201180066723.6 申请日期 2011.11.15
申请人 赫拉巴ABX公司 发明人 B·梅谢;D·克勒米安;A·乌兰卡
分类号 G01N15/14(2006.01)I;G01N15/02(2006.01)I;G01N21/64(2006.01)I 主分类号 G01N15/14(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 陈松涛;韩宏
主权项 一种用于微粒子的表征的电光流式测量设备,包括:要表征的粒子的流在其中循环的测量室、不相交光谱的至少两个光源、用于测量电阻率的设备、以及均允许光学参数的测量的至少三个其他检测器,所述光学参数选自荧光、消光、广角衍射、以及小角衍射,所述电光流式测量设备的特征在于:‑第一光源,最小相干并具有最长波长,限定出与所述粒子的流垂直的主光轴,所述主光轴具有分别位于所述室的两侧的两个光学组件,一个光学组件是使由所述第一光源发射的束成形的发射枪,另一光学组件是收集由所述第一光源发射的信号且位于所述测量室之后的接收枪;‑第二光源,最大相干并具有最短波长,限定出与所述主光轴相交并且垂直于所述粒子的流的副光轴;‑第一检测器,面对所述第一光源布置在所述接收枪的末端,并因此具有光场操作;‑所述接收枪包括收集光学装置,收集由所述第一光源与所述流中的粒子之间的相互作用而朝向所述第一检测器发出的束,这些收集光学装置使得在其部分路径上,所传送的光束基本上是准直束;‑第一分色镜,布置在所述接收枪中的光束被基本准直的所述部分路径处,从而将由所述第二光源与所述流中的粒子之间的相互作用而发出的光束部分反射向第二检测器,所述第二检测器布置在被部分反射的束的路径上;‑所述发射枪包括束成形光学装置,用以使由所述第一光源发射的束成形,这些束成形光学装置使得在其部分路径上,光束基本上是准直束;以及‑第二分色镜,布置在所述第一光源与所述室之间的发射枪中的光束被基本准直的所述部分光路处,以便将由所述第二光源与所述流中的粒子之间的相互作用而发出的束部分反射向第三检测器,所述第三检测器布置在被部分反射的束的路径上。
地址 法国蒙彼利埃