| 发明名称 | 一种图形制作方法、阵列基板及显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种图形制作方法阵列基板、显示装置，涉及显示领域。其中，方法包括:在所述绝缘层上刻蚀出与所述功能图案相同的凹槽结构，所述凹槽结构的厚度小于所述绝缘层的厚度；在刻蚀有所述凹槽结构的基板上形成待刻蚀为功能图案的图案层；刻蚀非凹槽结构上的所述图案层，得到由保留在所述凹槽结构上的图案层形成的所述功能图案。本发明的方案能够有效减少绝缘层上形成的功能图案的凸起，使像素区域的边缘附近更加平坦，从而提高了PI薄膜的摩擦工艺，避免发生漏光现象。 | ||
| 申请公布号 | CN104617041A | 申请公布日期 | 2015.05.13 |
| 申请号 | CN201510062159.0 | 申请日期 | 2015.02.05 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 | 发明人 | 苗青;吴俊 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 许静;黄灿 |
| 主权项 | 一种图形制作方法，用于在最上层为绝缘层的基板上形成功能图案，其特征在于，所述图形制作方法包括：在所述绝缘层上刻蚀出与所述功能图案相同的凹槽结构，所述凹槽结构的厚度小于所述绝缘层的厚度；在刻蚀有所述凹槽结构的基板上形成待刻蚀为功能图案的图案层；刻蚀掉非凹槽结构上的所述图案层，得到由保留在所述凹槽结构上的图案层形成的所述功能图案。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||