发明名称 | 液体处理装置、液体处理方法及记忆媒体 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI483784 | 申请公布日期 | 2015.05.11 |
申请号 | TW099125099 | 申请日期 | 2010.07.29 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 伊藤规宏 |
分类号 | B05C11/10;H01L21/304 | 主分类号 | B05C11/10 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
主权项 | 一种液体处理装置,使用经调节温度之液体对被处理体进行处理,其特征在于包含:液体供给机构,用以供给液体;第1供给管线,连接于该液体供给机构,具有喷吐经调节温度之液体的喷吐开口;处理单元,支持该第1供给管线,可使用由该第1供给管线喷吐开口所喷吐的经调节温度之液体,对该被处理体进行处理;回流管线,使对该第1供给管线供给之液体回流到该液体供给机构,以调节该第1供给管线之温度;及液体供给切换阀,设在该第1供给管线上,用以对在该处理单元内用来处理该被处理体之液体的朝该喷吐开口之供给及停止供给,进行切换;且该液体供给切换阀系设在自该第1供给管线经由该回流管线回流到该液体供给机构之液体通道上,包含控制液体流量之控制装置,俾在液体于该回流管线内流动,调节该第1供给管线之温度时,于该回流管线内流动之每单位时间的液体量,较多于在由该喷吐开口对基板喷吐液体时,由该第1供给管线之该喷吐开口喷吐之每单位时间的液体量。 | ||
地址 | 日本 |