| 摘要 |
【課題】酸素、水分等から素子を保護し、素子の劣化等を抑制することが可能な素子構造体及び素子構造体の製造方法を提供する。【解決手段】素子構造体１は、基板２と、デバイス層３と、第１の保護層４と、第２の保護層５と、封止層６とを具備する。デバイス層３は、基板２上の第１の領域１１に形成される。第１の保護層４は、デバイス層３の周囲に形成される第１の周縁部４Ａを有し、デバイス層３を被覆して第１の領域１１を含む基板２上の第２の領域１２に形成され、無機物からなる。第２の保護層５は、第２の領域１２に対応する第１の保護層４上の第３の領域１３に形成され、有機物からなる。封止層６は、第１の周縁部４Ａと第２の保護層５との周囲に形成される第２の周縁部６Ａを有し、第２の保護層５を被覆して第２の領域１２を含む基板２上の第４の領域１４に形成され、無機物からなる。【選択図】図１ |
