发明名称 | 应用于等离子处理装置气体分布系统的验证方法 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI484526 | 申请公布日期 | 2015.05.11 |
申请号 | TW101143573 | 申请日期 | 2012.11.21 |
申请人 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 发明人 | 周旭升;周军;孙海辉;范宝光 |
分类号 | H01J37/32 | 主分类号 | H01J37/32 |
代理机构 | 代理人 | 林志青 台北市信义区松隆路102号18楼之1 | |
主权项 | 一种应用于等离子处理装置气体分布系统的验证方法,所述等离子处理装置包括一反应腔和一气体分布器,所述气体分布器包括至少两个独立的气体分布区向所述反应腔不同区域供应处理气体,一气体分流调节器通过至少两个气体通道向所述气体分布器的至少两个气体分布区供气,一抽气装置与所述反应腔相联通,排出所述反应腔中的处理气体;提供一具有设定流量值的处理气体;分流所述具有设定流量值的处理气体为一第一部分处理气体和一第二部分处理气体,使所述第一部分处理气体流入所述反应腔,所述第二部分处理气体直接流入所述抽气装置;测量所述流入反应腔的第一部分处理气体气压,并计算所述第一部分处理气体流量;以及比较所述测量所得的第一部分处理气体流量值与一气流参考值,判断所述气体分流调节器分流状态,其中所述气流参考值是所述设定流量值。 | ||
地址 | 中国 |