发明名称 真空处理装置及真空处理方法
摘要
申请公布号 TWI484586 申请公布日期 2015.05.11
申请号 TW101118605 申请日期 2012.05.24
申请人 日立全球先端科技股份有限公司 发明人 仲田辉男;野木庆太;井上智己;川口道则
分类号 H01L21/677;H01L21/02 主分类号 H01L21/677
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种真空处理装置,其系具备将置于大气侧之被处理体取入至真空侧之装载室者,其特征在于包括:复数个处理室,其设置于上述真空侧,且对上述被处理体实施特定之处理;复数个搬送机构部,其具备进行上述被处理体之交接之真空机器人而成;复数个搬送中间部,其连结上述搬送机构部之间而中继搬送上述被处理体;保持机构部,其设置于上述装载室与上述搬送中间部内而保持复数个上述被处理体;及控制部,其控制上述被处理体之交接及中继搬送;且上述控制部保持表示上述处理室、上述搬送机构部、上述搬送中间部、上述保持机构部之各者之动作状态、以及上述被处理体之有无及其处理状态之装置状态资讯,基于该装置状态资讯,针对每个上述处理室,算出处理中或向预定处理之处理室搬送中且于该处理室内未处理的上述被处理体之数量作为未处理之被处理体之数量,当所算出之上述未处理之被处理体之数量与藉由上述保持机构部可保持之被处理体之数量来决定的预先设定之投入限制数相同或者为其以上之情形时,算出将与该投入限制数相同或为其以上之处理室除外后之搬送目的地候补,而针对在上述搬送目的地候补之处理室可处理之上述被处理体,自上述搬送目的地候补算出上述被 处理体之搬送目的地。
地址 日本