发明名称 半导体元件特征化方法及半导体元件
摘要
申请公布号 TWI484573 申请公布日期 2015.05.11
申请号 TW098118689 申请日期 2009.06.05
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 李岳勋;刘元昌;陈正雄
分类号 H01L21/66;H01L27/12;H01L29/78 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3;吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3
主权项 一种半导体元件测量方法,包含有以下步骤:提供一矽覆绝缘(silicon-on-insulator,SOI)基底,该SOI基底上设置有至少一主体可外接(body-tied)矽覆绝缘(BT SOI)元件与一主体可外接(BT)寄生元件,其中该BT寄生元件包含有一第一型源极/汲极重掺杂区域与一寄生闸极,且该寄生闸极不设置于该第一型源极/汲极重掺杂区域之上;分别测量该BT SOI元件与该BT寄生元件的穿隧电流(Igb)与散射参数(scattering parameter,S参数);利用该BT寄生元件之穿隧电流校正该BT SOI元件之穿隧电流,以获得一浮体矽覆绝缘(floating body,BT SOI)元件之穿隧电流;藉由去嵌化技术从该BT SOI元件扣除该BT寄生元件之特性,以萃取出该FB SOI元件之S参数;以及计算分析该FB SOI元件之S参数而得到该FB SOI元件之闸极相关电容值(Cgb)。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号