发明名称 | 半导体元件特征化方法及半导体元件 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI484573 | 申请公布日期 | 2015.05.11 |
申请号 | TW098118689 | 申请日期 | 2009.06.05 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 李岳勋;刘元昌;陈正雄 |
分类号 | H01L21/66;H01L27/12;H01L29/78 | 主分类号 | H01L21/66 |
代理机构 | 代理人 | 戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3;吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3 | |
主权项 | 一种半导体元件测量方法,包含有以下步骤:提供一矽覆绝缘(silicon-on-insulator,SOI)基底,该SOI基底上设置有至少一主体可外接(body-tied)矽覆绝缘(BT SOI)元件与一主体可外接(BT)寄生元件,其中该BT寄生元件包含有一第一型源极/汲极重掺杂区域与一寄生闸极,且该寄生闸极不设置于该第一型源极/汲极重掺杂区域之上;分别测量该BT SOI元件与该BT寄生元件的穿隧电流(Igb)与散射参数(scattering parameter,S参数);利用该BT寄生元件之穿隧电流校正该BT SOI元件之穿隧电流,以获得一浮体矽覆绝缘(floating body,BT SOI)元件之穿隧电流;藉由去嵌化技术从该BT SOI元件扣除该BT寄生元件之特性,以萃取出该FB SOI元件之S参数;以及计算分析该FB SOI元件之S参数而得到该FB SOI元件之闸极相关电容值(Cgb)。 | ||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |