发明名称 |
水性抛光剂及其在用于抛光图案化及非结构化金属表面的方法的用途 |
摘要 |
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申请公布号 |
TWI484006 |
申请公布日期 |
2015.05.11 |
申请号 |
TW099113162 |
申请日期 |
2010.04.27 |
申请人 |
巴斯夫欧洲公司 |
发明人 |
拉曼 维杰 伊曼纽;古贝杜林 伊夏特;李玉琢;布兰斯 玛莉欧;兰永清 |
分类号 |
C09G1/02;H01L21/304 |
主分类号 |
C09G1/02 |
代理机构 |
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代理人 |
桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼 |
主权项 |
一种水性抛光剂,其包含:(A)至少一种类型的固体聚合物粒子作为研磨剂,其系细微地分散于水相中且能够-与欲抛光之表面顶部上的金属及/或金属氧化物交互作用,及-与欲抛光之表面的金属形成强错合物,其特征在于该固体聚合物粒子(A)含有选自能够与欲抛光之表面顶部上的金属及/或金属氧化物交互作用的侧基团及末端基团群组的官能基或系选自含有或由聚合物链所组成之经交联聚合物群组,该聚合物链系选自由烯烃系不饱和单体之阴离子、阳离子或由自基聚合可获得的聚合物组成之群组,该官能基系选自由一级、二级和三级胺基及四级铵基团组成之群组;(B)至少一种有机非聚合物化合物作为硬式错合剂,其系溶解于水相中且能够-与欲抛光之表面顶部上的金属及/或金属氧化物交互作用,-与该金属形成强的水溶性错合物,及-随着化合物(B)在水性抛光剂中的浓度增加而引起欲抛光之金属表面的材料移除速率MRR和静态蚀刻速率SER增加;及(C)至少一种有机非聚合物化合物作为软式错合剂,其系溶解于水相中且能够
-与欲抛光之表面顶部上的金属及/或金属氧化物交互作用,-与欲抛光之表面的金属形成微溶性或不溶性错合物,该错合物能够被欲抛光之金属表面吸附,及-随着化合物(C)在水性抛光剂中的浓度增加而引起欲抛光之金属表面的材料移除速率MRR的增加低于化合物(B)和静态蚀刻速率SER的增加低于化合物(B)或静态蚀刻速率SER不增加,其中化合物(C)不形成分离相(separate phase)。
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地址 |
德国 |