GLASS REPROCESSING METHOD, REMADE GLASS SUBSTRATE, AND PHOTO MASK BLANK AND PHOTO MASK EMPLOYING SAME

摘要

본 발명은 각종 플랫 패널의 생산에서 사용 완료로 된 포토마스크나 포토마스크 제조 공정에서 불량으로 된 포토마스크를 새로운 포토마스크용 유리 기판으로서 재이용하기 위하여 재생 처리하는 방법 및 이 재생 처리 방법으로 재생된 포토마스크용 유리 기판과 그것을 사용한 포토마스크용 블랭크 및 포토마스크에 관한 것이다. 재생 유리 기판의 표면을 종래의 물리적인 연마 처리를 행하지 않고, 호기상 검사에서 원래의 패턴 흔적이 나타나지 않도록 습윤성을 균일화하는 처리에 의해, 저비용으로, 결함이 적은 재생 유리 기판을 얻는 것을 가능하게 한다.