发明名称 |
レーザーダイシング用フィルム基材、レーザーダイシング用フィルム、及び電子部品の製造方法 |
摘要 |
厚みが50μm以上200μm以下の範囲であり、初期応力が9MPa以上19MPa以下の範囲であり、拡張率が102%以上120%以下の範囲であり、ヘイズ値が10以下であり、全光線透過率が90%以上であるステルスダイシング用フィルム基材を提供する。 |
申请公布号 |
JPWO2013099778(A1) |
申请公布日期 |
2015.05.07 |
申请号 |
JP20130551669 |
申请日期 |
2012.12.20 |
申请人 |
三井・デュポンポリケミカル株式会社 |
发明人 |
中野 重則;錦織 雅弘;橋本 芳恵;宮下 雄介 |
分类号 |
H01L21/301;C08J5/18;C09J7/02;C09J201/00 |
主分类号 |
H01L21/301 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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