发明名称 レーザーダイシング用フィルム基材、レーザーダイシング用フィルム、及び電子部品の製造方法
摘要 厚みが50μm以上200μm以下の範囲であり、初期応力が9MPa以上19MPa以下の範囲であり、拡張率が102%以上120%以下の範囲であり、ヘイズ値が10以下であり、全光線透過率が90%以上であるステルスダイシング用フィルム基材を提供する。
申请公布号 JPWO2013099778(A1) 申请公布日期 2015.05.07
申请号 JP20130551669 申请日期 2012.12.20
申请人 三井・デュポンポリケミカル株式会社 发明人 中野 重則;錦織 雅弘;橋本 芳恵;宮下 雄介
分类号 H01L21/301;C08J5/18;C09J7/02;C09J201/00 主分类号 H01L21/301
代理机构 代理人
主权项
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