| 摘要 |
<p>Ｃを除く純度が９９．９９ｗｔ％以上であり、かつ３．５７ｇ／ｃｍ３以上の密度を有し、白色度が６０％以下であることを特徴とするスパッタリング用焼結体酸化マグネシウムターゲット。酸化マグネシウムを均一に成膜するために、より高純度、高密度の酸化マグネシウムターゲットが要請されている。本発明では、これを実現できるターゲットとその製造方法を提供することを課題とする。また、原料粉をホットプレスして酸化マグネシウム焼結体スパッタリングターゲットを製造するのであるが、ターゲットの部の、およそφ６０（直径６０ｍｍの円内）程度に色むらが発生するという問題があった。従来では、特にこのような問題に着目することはなかったが、近年の成膜品質の向上から、この問題を究明する必要があり、そのための解決手段を見出す必要があった。</p> |
