| 发明名称 |
POLISHING AGENT, POLISHING AGENT SET AND METHOD FOR POLISHING BASE |
| 摘要 |
본 발명의 일 실시 형태에 따른 연마제는, 액상 매체와, 4가 금속 원소의 수산화물을 포함하는 지립과, 방향환 및 폴리옥시알킬렌 쇄를 갖는 고분자 화합물과, 양이온성 중합체를 함유하며, 고분자 화합물의 중량 평균 분자량이 1000 이상이다. |
| 申请公布号 |
KR20150048790(A) |
申请公布日期 |
2015.05.07 |
| 申请号 |
KR20157007136 |
申请日期 |
2013.07.30 |
| 申请人 |
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. |
发明人 |
AKUTSU TOSHIAKI;MINAMI HISATAKA;IWANO TOMOHIRO;FUJISAKI KOJI |
| 分类号 |
C09K3/14;B24B37/00;B24B37/04;H01L21/3105 |
主分类号 |
C09K3/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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