发明名称 光電変換素子及びその製造方法
摘要 <p>安価な手法で膜厚方向へのモルフォロジが制御された光電変換層を具備し、高い光電変換効率を示し優れた光電変換性能を有する光電変換素子を提供する。光電変換素子1は、基板7上で、n型有機半導体4とp型高分子半導体の結晶部2及び非晶部3とを含有する光電変換層5が正極と負極との電極層6の間に挟まれており、前記光電変換層5の断面のモルフォロジ画像をフーリエ変換した画像の、前記基板7に垂直な方向に対応するラインプロファイルをガウス関数でフィッティングした半値幅Xと、前記基板7に水平な方向に対応するラインプロファイルをガウス関数でフィッティングした半値幅Yとの関係が、0.1≰Y/X≰0.7を示すものである。</p>
申请公布号 JPWO2013099926(A1) 申请公布日期 2015.05.07
申请号 JP20130551729 申请日期 2012.12.26
申请人 发明人
分类号 H01L51/44;H01L51/48 主分类号 H01L51/44
代理机构 代理人
主权项
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