发明名称 Kristalline Mehrfach-Nanosheet-III-V-Kanal-FETs und Verfahren zu deren Herstellung
摘要 <p>Ein Feldeffekttransistor umfasst eine Körperschicht, die darin einen kristallinen Halbleiterkanalbereich umfasst, und einen Gatestapel auf dem Kanalbereich. Der Gatestapel umfasst eine kristalline Halbleiter-Gateschicht und eine kristalline Halbleiter-Gatedielektrikumschicht zwischen der Gateschicht und dem Kanalbereich. Diesbezügliche Vorrichtungen und Herstellungsverfahren werden ebenfalls besprochen.</p>
申请公布号 DE102014222378(A1) 申请公布日期 2015.05.07
申请号 DE201410222378 申请日期 2014.11.03
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 OBRADOVIC, BORNA J.,;KITTL, JORGE A.,;RODDER, MARK S.,
分类号 H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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