Kristalline Mehrfach-Nanosheet-III-V-Kanal-FETs und Verfahren zu deren Herstellung
摘要
<p>Ein Feldeffekttransistor umfasst eine Körperschicht, die darin einen kristallinen Halbleiterkanalbereich umfasst, und einen Gatestapel auf dem Kanalbereich. Der Gatestapel umfasst eine kristalline Halbleiter-Gateschicht und eine kristalline Halbleiter-Gatedielektrikumschicht zwischen der Gateschicht und dem Kanalbereich. Diesbezügliche Vorrichtungen und Herstellungsverfahren werden ebenfalls besprochen.</p>
申请公布号
DE102014222378(A1)
申请公布日期
2015.05.07
申请号
DE201410222378
申请日期
2014.11.03
申请人
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD.
发明人
OBRADOVIC, BORNA J.,;KITTL, JORGE A.,;RODDER, MARK S.,