| 发明名称 | 一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法 | ||
| 摘要 | 本发明实施例提供一种掩膜装置、曝光装置及曝光方法，涉及液晶显示技术领域，能够在曝光过程中降低掩膜板被划伤的几率，从而保护掩膜板，进而降低液晶显示装置的生产成本。该掩膜装置包括掩膜承载体、设置于掩膜承载体的下表面的掩膜板，以及设置于掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，该保护单元的下端低于掩膜板的下表面。该掩膜装置用于对待曝光基板曝光时使用。 | ||
| 申请公布号 | CN104597723A | 申请公布日期 | 2015.05.06 |
| 申请号 | CN201510058241.6 | 申请日期 | 2015.02.04 |
| 申请人 | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 吴斌;余忠兴 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种掩膜装置，所述掩膜装置包括掩膜承载体，以及设置于所述掩膜承载体的下表面的掩膜板，其特征在于，所述掩膜装置还包括：设置于所述掩膜承载体上的至少一个保护单元，其中，在曝光过程中，所述保护单元的下端低于所述掩膜板的下表面。 | ||
| 地址 | 230012 安徽省合肥市新站区铜陵北路2177号 | ||