发明名称 掩膜板的制作方法
摘要 本发明提供一种掩膜板的制作方法,先采用电铸工艺或物理气相沉积工艺制作出初始掩膜板(3’),该初始掩膜板(3’)具有多个呈阵列式排布的、开口尺寸等于蒸镀所需的设计开孔尺寸(W)的直孔通孔(31);再采用化学刻蚀工艺,对初始掩膜板(3’)的下表面及直孔通孔(31)的内壁进行刻蚀,形成具有斜锥角(Φ)的曲线形凹槽(33),该曲线形凹槽(33)的开口尺寸自下而上逐渐减小至蒸镀所需的设计开孔尺寸(W),从而制作出掩膜板(3),一方面能够提高蒸镀开孔的尺寸精度,一方面使蒸镀开孔具有设计需要的斜锥角,减少对蒸镀材料的遮挡,提高蒸镀效率,使掩膜板更符合制程要求。
申请公布号 CN104593722A 申请公布日期 2015.05.06
申请号 CN201410815512.3 申请日期 2014.12.23
申请人 深圳市华星光电技术有限公司 发明人 刘亚伟;吴聪原
分类号 C23C14/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/04(2006.01)I
代理机构 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 代理人 林才桂
主权项 一种掩膜板的制作方法,其特征在于,先采用电铸工艺或物理气相沉积工艺制作出初始掩膜板(3’),该初始掩膜板(3’)具有多个呈阵列式排布的、开口尺寸等于蒸镀所需的设计开孔尺寸(W)的直孔通孔(31);再采用化学刻蚀工艺,对初始掩膜板(3’)的下表面及直孔通孔(31)的内壁进行刻蚀,形成具有斜锥角(Φ)的曲线形凹槽(33),该曲线形凹槽(33)的开口尺寸自下而上逐渐减小至蒸镀所需的设计开孔尺寸(W),从而制作出掩膜板(3)。
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