发明名称 |
掩膜板的制作方法 |
摘要 |
本发明提供一种掩膜板的制作方法,先采用电铸工艺或物理气相沉积工艺制作出初始掩膜板(3’),该初始掩膜板(3’)具有多个呈阵列式排布的、开口尺寸等于蒸镀所需的设计开孔尺寸(W)的直孔通孔(31);再采用化学刻蚀工艺,对初始掩膜板(3’)的下表面及直孔通孔(31)的内壁进行刻蚀,形成具有斜锥角(Φ)的曲线形凹槽(33),该曲线形凹槽(33)的开口尺寸自下而上逐渐减小至蒸镀所需的设计开孔尺寸(W),从而制作出掩膜板(3),一方面能够提高蒸镀开孔的尺寸精度,一方面使蒸镀开孔具有设计需要的斜锥角,减少对蒸镀材料的遮挡,提高蒸镀效率,使掩膜板更符合制程要求。 |
申请公布号 |
CN104593722A |
申请公布日期 |
2015.05.06 |
申请号 |
CN201410815512.3 |
申请日期 |
2014.12.23 |
申请人 |
深圳市华星光电技术有限公司 |
发明人 |
刘亚伟;吴聪原 |
分类号 |
C23C14/04(2006.01)I;H01L51/56(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/04(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市德力知识产权代理事务所 44265 |
代理人 |
林才桂 |
主权项 |
一种掩膜板的制作方法,其特征在于,先采用电铸工艺或物理气相沉积工艺制作出初始掩膜板(3’),该初始掩膜板(3’)具有多个呈阵列式排布的、开口尺寸等于蒸镀所需的设计开孔尺寸(W)的直孔通孔(31);再采用化学刻蚀工艺,对初始掩膜板(3’)的下表面及直孔通孔(31)的内壁进行刻蚀,形成具有斜锥角(Φ)的曲线形凹槽(33),该曲线形凹槽(33)的开口尺寸自下而上逐渐减小至蒸镀所需的设计开孔尺寸(W),从而制作出掩膜板(3)。 |
地址 |
518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 |