| 发明名称 | 预湿用组合物 | ||
| 摘要 | 一种预湿用组合物，其为太阳能电池的制造方法中使用的预湿用组合物，所述预湿用组合物含有质子性的极性溶剂和水，其中所述太阳能电池的制造方法包括：第1涂布工序，在半导体制造用基板的一面旋涂预湿用组合物；第2涂布工序，在旋涂了所述预湿用组合物的所述一面旋涂包含具有第1杂质元素的扩散剂和溶剂的扩散材料，形成所述扩散剂的涂膜；和第1杂质层形成工序，对形成了所述涂膜的所述半导体制造用基板进行热处理，形成使所述扩散剂所具有的杂质元素扩散后的第1杂质层。 | ||
| 申请公布号 | CN104600151A | 申请公布日期 | 2015.05.06 |
| 申请号 | CN201410586962.X | 申请日期 | 2014.10.28 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 谷津克也;大石诚士 |
| 分类号 | H01L31/18(2006.01)I;H01L21/22(2006.01)I;H01L31/04(2014.01)I;C09D5/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L31/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 蒋亭 |
| 主权项 | 一种预湿用组合物，其为太阳能电池的制造方法中使用的预湿用组合物，所述太阳能电池的制造方法包括：第1涂布工序，在半导体制造用基板的一面旋涂预湿用组合物；第2涂布工序，在旋涂了所述预湿用组合物的所述一面旋涂包含具有第1杂质元素的扩散剂和溶剂的扩散材料，形成所述扩散剂的涂膜；和第1杂质层形成工序，对形成了所述涂膜的所述半导体制造用基板进行热处理，形成使所述扩散剂所具有的杂质元素扩散后的第1杂质层，所述预湿用组合物含有质子性的极性溶剂和水。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||