镀铝装置以及使用该装置制造铝膜的方法

摘要

本发明提供了一种镀铝装置，即使在表面上具有绝缘的或导电性较差的金属氧化膜等的基体表面上，该镀铝装置也能够很好地形成铝镀层。本发明提供了一种通过在镀槽中传送基体从而将铝电沉积至基体上的镀铝装置，其中：自所述基体的传送方向上的上游侧起，所述镀槽被分隔板依次分隔为第一电解室和第二电解室；设置于所述第一电解室中的负极与所述基体之间电连接，从而使得所述基体在第一电解室中充当正极；并且设置于所述第二电解室中的正极与所述基体之间电连接，从而使得所述基体在第二电解室中充当负极。

主权项

一种镀铝装置，其用于通过在镀槽中传送基体从而将铝电沉积至所述基体上，所述装置的特征在于：自所述基体的传送方向上的上游侧起，所述镀槽被分隔板依次分隔为第一电解室和第二电解室；在设置有负极的所述第一电解室中，该负极以使所述基体充当正极的方式与所述基体电连接；并且在设置有正极的所述第二电解室中，该正极以使所述基体充当负极的方式与所述基体电连接。