气体分散装置以及包括该气体分散装置的基板处理设备

摘要

公开了一种气体分散装置以及包括该气体分散装置的基板处理设备。所述基板处理设备包括：处理室，其通过室盖和室主体的组合提供反应空间；气体分散装置，其包括在处理室中的板和喷射部，该喷射部包括在板中的多个通孔和与多个通孔流体连接的放电部，该放电部具有矩阵形状且提供对等离子体放电的空间；和在处理室中的基座，该基座面对气体分散装置，并且基板位于该基座上。

主权项

一种基板处理设备，包括：通过室盖和室主体的组合而提供反应空间的处理室；在所述室盖的内表面上的多个等离子体源电极；在所述室盖和所述多个等离子体源电极之间的多个绝缘装置；与所述多个等离子体源电极交替且用作接地电极的多个突起电极；分别在所述多个等离子体源电极中的多个第一气体分散装置，所述多个第一气体分散装置中的每一个都包括容纳第一处理气体的第一缓冲空间、与所述第一缓冲空间流体连接的多个第一通孔、和与所述多个第一通孔流体连接的第一放电部，所述第一放电部具有矩阵形状且提供对所述第一处理气体的第一等离子体放电的第一空间；分别在所述多个突起电极中的多个第二气体分散装置，所述多个第二气体分散装置的每一个包括容纳第二处理气体的第二缓冲空间、与所述第二缓冲空间流体连通的多个第二通孔、和与所述多个第二通孔流体连接的第二放电部，所述第二放电部具有矩阵形状且提供对所述第二处理气体的第二等离子体放电的第二空间；和在所述处理室中的基座，所述基座面对所述多个等离子体源电极。