发明名称 等离子清洗机台装置
摘要 本实用新型提供一种等离子清洗机台装置,包括腔体,设置在所述腔体顶部、用于输入气体的气管接头,围绕在所述腔体中部外表面、用于激发所述气体获得等离子体的电感耦合等离子体线圈,固定在所述腔体内壁、设置在所述气管接头和电感耦合等离子体线圈之间、用于均匀分布所述气体的挡板。所述挡板上设置有均匀分布的通孔。本实用新型通过在气管接头和电感耦合等离子体线圈之间设置一个均匀分布有通孔的挡板,使气体均匀地通过挡板,从而在电感耦合等离子体线圈的作用下均匀地产生等离子体,与晶圆表面光刻胶均匀地发生反应。本实用新型结构简单,操作简便,有效地提高了等离子清洗的均匀度。
申请公布号 CN204315533U 申请公布日期 2015.05.06
申请号 CN201420801193.6 申请日期 2014.12.16
申请人 南通富士通微电子股份有限公司 发明人 陈国华
分类号 H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/67(2006.01)I
代理机构 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人 孟阿妮;郭栋梁
主权项 一种等离子清洗机台装置,其特征在于,包括腔体,设置在所述腔体顶部、用于输入气体的气管接头,围绕在所述腔体中部外表面、用于激发所述气体获得等离子体的电感耦合等离子体线圈,固定在所述腔体内壁、设置在所述气管接头和电感耦合等离子体线圈之间、用于均匀分布所述气体的挡板;所述挡板上设置有均匀分布的通孔。
地址 226006 江苏省南通市崇川区崇川路288号