用于大视场X射线相衬成像的X射线源

摘要

本发明公开了一种用于大视场X射线相衬成像的X射线源，包括用于发射电子束的电子源和响应于电子束入射而发射X射线的阳极靶，所述阳极靶为一体结构的柱体，所述阳极靶顶端设有发射面，所述发射面由多个呈阶梯状排布且相互平行的倾斜发射面单元组成；相邻的所述发射面单元之间的阶梯间侧壁与阳极靶发射面之间的夹角α为50°-120°，且该阶梯间侧壁与阳极靶发射面的主光轴之间的夹角β为大于等于90°。本发明提供一种能应用在大视场X射线相衬成像中、克服阵列结构阳极的视场限制、制造成本低、制作工艺简单可靠的用于大视场X射线相衬成像的X射线源。

主权项

一种用于大视场X射线相衬成像的X射线源，包括用于发射电子束的电子源和响应于电子束入射而发射X射线的阳极靶，其特征在于，所述阳极靶为一体结构的柱体，所述阳极靶顶端设有发射面，所述发射面由多个呈阶梯状排布且相互平行的倾斜发射面单元组成，任意两个相邻的所述发射面单元所在的平面相互错开，且多个所述发射面单元在阳极靶发射面的主光轴的垂直方向上的投影形成一个连续的整体；相邻的所述发射面单元之间的阶梯间侧壁与阳极靶发射面之间的夹角α为50°‑120°，且该阶梯间侧壁与阳极靶发射面的主光轴之间的夹角β为大于等于90°。