发明名称 |
直接浸泡反应式的泡沫镍-石墨烯三维多孔电极制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种直接浸泡反应式的泡沫镍-石墨烯三维多孔电极制备方法,包括:将泡沫镍依次采用冰醋酸、丙酮和乙醇进行清洗,然后将其通过去离子水清洗后晾干放置;制备质量浓度为0.5mg/mL~5mg/mL的氧化石墨烯水溶液,然后将泡沫镍直接浸泡到其中静置反应,并且在此浸泡过程中反应温度被控制为30℃~80℃,浸泡时间为2小时~6小时,由此形成三维多孔结构的泡沫镍-石墨烯产物。通过本发明,可以仅通过简单、便于操控的一个浸泡过程即可快速完成还原反应,并基于泡沫镍的基底增强效应在其表面上直接沉积生长石墨烯,最终形成三维多孔结构且高比表面积的产物,相应极大地提高了整体的反应速率,并尤其适用于大批量规模生产用途。 |
申请公布号 |
CN104600238A |
申请公布日期 |
2015.05.06 |
申请号 |
CN201410808400.5 |
申请日期 |
2014.12.22 |
申请人 |
华中科技大学 |
发明人 |
王帅;张哲野 |
分类号 |
H01M4/04(2006.01)I;H01G11/86(2013.01)I;C23C18/16(2006.01)I |
主分类号 |
H01M4/04(2006.01)I |
代理机构 |
华中科技大学专利中心 42201 |
代理人 |
梁鹏 |
主权项 |
一种直接浸泡反应式的泡沫镍‑石墨烯三维多孔电极制备方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:(a)将泡沫镍依次采用冰醋酸、丙酮和乙醇进行清洗,然后将其通过去离子水清洗后晾干放置;(b)制备质量浓度为0.5mg/mL~10mg/mL的氧化石墨烯水溶液,然后将步骤(a)处理后的泡沫镍直接浸泡到其中静置反应,并且在此浸泡过程中反应温度被控制为30℃~80℃,浸泡时间为2小时~12小时;以此方式,石墨烯在浸泡过程中发生还原反应,并在作为导电基底的泡沫镍表面上自发沉积生长为石墨烯,最终形成三维多孔结构的泡沫镍‑石墨烯产物。 |
地址 |
430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号 |