| 发明名称 | 光学系统中的、尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种光学系统中的光学布置，尤其是微光刻投射曝光设备中的光学布置，该光学布置包括：至少一个发热子系统(110-810)，在光学系统操作期间发射热；第一热屏蔽(120-820)，设置成至少部分吸收发热子系统(110-810)所发射的热；第一冷却装置(130-830)，与第一热屏蔽机械接触，并被设计成将来自第一热屏蔽的热散掉；以及第二热屏蔽(140-840)，至少部分吸收第一热屏蔽(120-820)所发射的热，同样地，第二热屏蔽(140-840)与将来自第二热屏蔽(140-840)的热散掉的冷却装置机械接触。 | ||
| 申请公布号 | CN102576141B | 申请公布日期 | 2015.05.06 |
| 申请号 | CN201080043766.8 | 申请日期 | 2010.09.22 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | T.劳弗;A.索尔霍弗 |
| 分类号 | G02B7/18(2006.01)I;F16L59/06(2006.01)I;F25D19/04(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G02B7/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种光学系统中的光学布置，包括：至少一发热子系统(110‑810)，在所述光学系统操作期间发射热；第一热屏蔽(120‑820)，设置成至少部分吸收所述发热子系统(110‑810)所发射的热；第一冷却装置(130‑830)，与所述第一热屏蔽机械接触，并被设计为将来自所述第一热屏蔽的热散掉；以及第二热屏蔽(140‑840)，至少部分吸收所述第一热屏蔽(120‑820)所发射的热，所述第二热屏蔽(140‑840)同样地与将来自所述第二热屏蔽(140‑840)的热散掉的冷却装置机械接触；其中所述第二热屏蔽(140‑840)以固定或变化的间距覆盖所述第一热屏蔽(120‑820)，并且仅在所述第一冷却装置(130‑830)的区域中与所述第一热屏蔽机械接触；并且其中所述发热子系统(110‑810)是光学子系统。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||