发明名称 |
样品测量池 |
摘要 |
本实用新型揭示了一种样品测量池,所述样品测量池包括反射腔及至少一个反射结构,反射腔用于容置待测样品;反射结构设置于反射腔的边界;反射结构包括接触待测样品的接触面和远离待测样品的反射面;本实用新型的样品接触面对样品具有化学惰性,同时设置反射面为远离待测样品的一面,以使待测样品及样品中的杂质不会破坏起反射作用的反射面。本实用新型兼顾了样品测量池的环境适应能力强和长光程的优点。 |
申请公布号 |
CN204314210U |
申请公布日期 |
2015.05.06 |
申请号 |
CN201420799929.0 |
申请日期 |
2014.12.17 |
申请人 |
邓文平 |
发明人 |
邓文平 |
分类号 |
G01N21/03(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/03(2006.01)I |
代理机构 |
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 |
代理人 |
杨林洁 |
主权项 |
一种样品测量池,其特征在于,所述样品测量池包括:反射腔,用于容置待测样品;以及至少一个反射结构,所述至少一个反射结构设置于所述反射腔的边界;其中,所述反射结构包括接触面和反射面,所述接触面接触所述待测样品,所述反射面远离所述待测样品;所述接触面及所述反射面的至少其中之一为非平面;入射光于所述反射腔内多次反射以形成测量光路路径,所述入射光通过入射部分进入所述反射腔,所述入射部分为所述入射光与所述测量光路路径初次接触的部分,所述入射部分与所述反射面之间为非连续设置。 |
地址 |
215123 江苏省苏州市工业园区仁爱路166号明德楼214室 |