发明名称 |
808nm平顶光场大功率激光器 |
摘要 |
本发明公开了一种808nm平顶光场大功率激光器,涉及半导体激光器技术领域;包括衬底以及在衬底上从下至上依次生长的缓冲层、下限制层、下光场作用层、下波导层、量子阱层、上波导层、上光场作用层、上限制层和电极接触层,所述下光场作用层采用高掺杂的N型AlGaAs材料,上光场作用层采用高掺杂的P型AlGaAs材料。本发明快轴光场顶部分布均匀,能够进一步降低有源区光功率密度,提高激光器的可靠性和耐用性。 |
申请公布号 |
CN104600562A |
申请公布日期 |
2015.05.06 |
申请号 |
CN201510055185.0 |
申请日期 |
2015.02.03 |
申请人 |
中国电子科技集团公司第十三研究所 |
发明人 |
宁吉丰;陈宏泰;车相辉;王彦照;林琳;位永平;王晶 |
分类号 |
H01S5/323(2006.01)I;H01S5/20(2006.01)I |
主分类号 |
H01S5/323(2006.01)I |
代理机构 |
石家庄国为知识产权事务所 13120 |
代理人 |
米文智 |
主权项 |
一种808nm平顶光场大功率激光器,包括衬底(1)以及在衬底(1)上从下至上依次生长的缓冲层(2)、下限制层(3)、下光场作用层(4)、下波导层(5)、量子阱层(6)、上波导层(7)、上光场作用层(8)、上限制层(9)和电极接触层(10),其特征在于所述下光场作用层(4)采用高掺杂的N型AlGaAs材料,上光场作用层(8)采用高掺杂的P型AlGaAs材料。 |
地址 |
050051 河北省石家庄市合作路113号 |