发明名称 一种应用于晶硅太阳能电池的光刻系统
摘要 本实用新型公开了一种应用于晶硅太阳能电池的光刻系统,包括:用于对硅片的正面进行预处理的预处理装置;用于对硅片的正面涂布光刻胶的涂布设备;用于对硅片进行软烘焙处理的软烘焙设备;用于对硅片进行对准和曝光的曝光机;用于对硅片进行后烘焙处理的后烘焙设备;用于在硅片的表面喷洒显影液的喷洒设备;用于对硅片进行硬烘焙处理的硬烘焙设备;用于对硅片表面进行刻蚀的刻蚀设备;用于去除硅片表面的光刻胶的清除设备。本实用新型可以在硅片表面形成完整一致性的抗反射绒面,延长太阳光在电池表面的传播路径,增加电池对太阳光的吸收率,提高电池转换效率。
申请公布号 CN204315614U 申请公布日期 2015.05.06
申请号 CN201420709551.0 申请日期 2014.11.24
申请人 广东爱康太阳能科技有限公司 发明人 秦崇德;方结彬;石强;黄玉平;何达能
分类号 H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 广州三环专利代理有限公司 44202 代理人 温旭
主权项 一种应用于晶硅太阳能电池的光刻系统,其特征在于,包括:用于对硅片的正面进行预处理的预处理装置;与所述预处理装置相连接,用于对硅片的正面涂布光刻胶的涂布设备;与所述涂布设备相连接,用于对硅片进行软烘焙处理的软烘焙设备;与所述软烘焙设备相连接,用于对硅片进行对准和曝光的曝光机;与所述曝光机相连接,用于对硅片进行后烘焙处理的后烘焙设备;与所述后烘焙设备相连接,用于在硅片的表面喷洒显影液的喷洒设备;与所述喷洒设备相连接,用于对硅片进行硬烘焙处理的硬烘焙设备;与所述硬烘焙设备相连接,用于对硅片表面进行刻蚀的刻蚀设备;与所述刻蚀设备相连接,用于去除硅片表面的光刻胶的清除设备。
地址 528100 广东省佛山市三水工业园区C区69号