发明名称 WAVE FRONT ABERRATION METROLOGY OF OPTICS OF EUV MASK INSPECTION SYSTEM
摘要 극자외선(EUV) 검사 시스템의 파면 수차(wave-front aberration)를 측정하기 위한 테스트 구조가 개시된다. 상기 테스트 구조는 EUV 광에 대해 실질적으로 반사율을 갖지 않는 물질로부터 형성되는 기판 및, 상기 기판 상에 형성되고 EUV 광을 반사시키도록 상이한 굴절률을 갖는 층들의 복수의 교번(alternating) 쌍들을 포함하는, 필러(pillar)와 같은 다중층(multilayer, ML) 스택부를 포함한다. 상기 쌍들의 개수는 15개 이하이다.
申请公布号 KR20150048226(A) 申请公布日期 2015.05.06
申请号 KR20157007972 申请日期 2013.08.28
申请人 KLA-TENCOR CORPORATION 发明人 ZHANG QIANG;LIU YANWEI;SEZGINER ABDURRAHMAN (APO)
分类号 G01J1/42 主分类号 G01J1/42
代理机构 代理人
主权项
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